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产品与效劳

产品与效劳·Products and Services

SiN PDK

SiN PDK

基于普通体硅衬底进行 LPCVD 和 PECVD 氮化硅 PDK 器件库开发,研发 出了笼罩 100-800nm 厚度的超低损耗 PESIN 工艺,部分器件指标如下

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基于普通体硅衬底进行 LPCVD 和 PECVD 氮化硅 PDK 器件库开发,研发 出了笼罩 100-800nm 厚度的超低损耗 PESIN 工艺,部分器件指标如下:

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200nm 氮化硅器件库

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400nm 氮化硅器件库


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