微电子所硅光平台已对外提供包括无源器件和有源器件在内的硅光全流程工艺效劳。
平台主要工艺� ？榘�220nm/150nm/70nm无源器件刻蚀工艺、高速调制器掺杂工艺、TiN加热器电极工艺、锗质料外延工艺、硅和锗的欧姆接触及金属层工艺等。
平台每年可对外提供4-6次MPW流片效劳，同时为了满足客户的特殊工艺要求，可提供工艺定制效劳。
▲IMECAS硅光平台技术效劳
截止到2020年6月底，微电子所硅光平台已为200余家客户提供了MPW和定制化流片效劳。客户包括海内外顶级科研机构及行业龙头企业，如：华为、清华、海信等。
2021-11-15
217